ASML, EUV ışık kaynağı teknolojisinde ilerleme kaydederek yarı iletken üretim kapasitesini %50 artırmayı hedefliyor. Bu gelişme, üretim hızını yükseltirken maliyetleri düşürüyor ve yeni teknolojik yaklaşımlarla destekleniyor.

Çinli araştırmacılar, solid-state lazer tabanlı EUV ışık kaynağı geliştirerek ASML'nin eski teknolojisini geride bıraktı. Bu ilerleme, yarı iletken üretiminde Çin'in teknolojik bağımsızlığını güçlendiriyor.